특허기술상 상금 상향 및 수상마크 부여

특허청은 '2007년 하반기 특허기술상' 수상작 선정을 위해 오늘부터 10월 12일까지 우수 특허기술을 공모한다.

특허청은 우수 특허기술을 적극 발굴하고 상의 위상을 높이기 위해, 이번 공모 건부터는 특허기술상 신청대상을 최근 2년 이내 등록된 권리에서 최근 3년 이내 등록된 권리로 확대하고, 특허기술상 개최주기를 종전 분기별 선정에서 반기별 선정으로 전환하며, 수상작에 부여하는 상금액을 대폭 상향(세종대왕상 1000만원, 충무공상·정약용상 500만원, 지석영상 300만원)하는 등 개선된 제도를 적용한다.

아울러 선조들의 발명품과 특허청 ci를 결합한 특허기술상 수상마크를 제작하였으며, 이 수상마크는 특허기술상 수상발명의 사업화 또는 마케팅 등 홍보수단으로 활용할 수 있도록 특허기술상 수상발명의 권리자에게 제공된다.

한편 특허청은 특허기술상 수상마크의 오용 및 불법도용 방지를 위해 관련 고시 제정 및 업무표장등록을 추진 중에 있다.

특허기술상 온라인 공모는 매년 상반기(3월중) 및 하반기(9월중)에 각각 시행되며, 공모된 기술에 대해서는 심사관 추천, 심사팀·심사본부 예비심사, 선정심사협의회 본 심사를 거쳐 수상작을 선정한다. 금번 공모와 심사를 통해 선정된 우수 특허기술에 대해서는 오는 12월초에 특허기술상을 시상할 예정이다.

/대전=장중식기자

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